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Por favor, use este identificador para citar o enlazar este ítem: https://hdl.handle.net/20.500.12008/39954 Cómo citar
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Campo DC Valor Lengua/Idioma
dc.contributor.advisorArdao, Fabiana-
dc.contributor.authorDíaz Cibils, Romina-
dc.contributor.authorHidalgo Alvarez, María José-
dc.coverage.spatialURUGUAYes
dc.date.accessioned2023-09-19T12:45:22Z-
dc.date.available2023-09-19T12:45:22Z-
dc.date.issued2022-
dc.identifier.citationDíaz Cibils, R y Hidalgo Alvarez, M. Sastrería demi couture [en línea] Tesis de grado. Montevideo : Udelar. FADU, EUCD, 2022.es
dc.identifier.urihttps://hdl.handle.net/20.500.12008/39954-
dc.descriptionBibliografía: p. 96es
dc.description.abstractLa tesis aborda la técnica de sastrería desde una de las formas de producción cada vez más utilizada, denominada demi couture, y la estrecha relación que tienen estas dos áreas con la ideología del movimiento conocido como Fashion Revolution.es
dc.format.extent122 p.es
dc.format.mimetypeapplication/pdfes
dc.language.isoeses
dc.publisherUdelar. FADU. EUCDes
dc.rightsLas obras depositadas en el Repositorio se rigen por la Ordenanza de los Derechos de la Propiedad Intelectual de la Universidad de la República.(Res. Nº 91 de C.D.C. de 8/III/1994 – D.O. 7/IV/1994) y por la Ordenanza del Repositorio Abierto de la Universidad de la República (Res. Nº 16 de C.D.C. de 07/10/2014)es
dc.subject.otherINDUSTRIA DE LA VESTIMENTAes
dc.subject.otherSASTRERIAes
dc.titleSastrería demi couturees
dc.typeTesis de gradoes
dc.contributor.filiacionDíaz Cibils Romina, Universidad de la República (Uruguay). Facultad de Arquitectura, Diseño y Urbanismo. Licenciatura en Diseño Industrial-
dc.contributor.filiacionHidalgo Alvarez María José, Universidad de la República (Uruguay). Facultad de Arquitectura, Diseño y Urbanismo. Licenciatura en Diseño Industrial-
thesis.degree.grantorUniversidad de la República (Uruguay). Facultad de Arquitectura, Diseño y Urbanismo.es
thesis.degree.nameLicenciado en Diseño Industriales
dc.rights.licenceLicencia Creative Commons Atribución - No Comercial - Sin Derivadas (CC - By-NC-ND 4.0)es
Aparece en las colecciones: Tesis de grado - Escuela Universitaria Centro de Diseño

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